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O PROCESSO FÍSICO DO DEPÓSITO DE VAPOR (PVD) É USADO NA FABRICAÇÃO DA MICROPLAQUETA DO DIODO EMISSOR DE LUZ, BANDEJA DE SIC PVD

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O PROCESSO FÍSICO DO DEPÓSITO DE VAPOR (PVD) É USADO NA FABRICAÇÃO DA MICROPLAQUETA DO DIODO EMISSOR DE LUZ, BANDEJA DE SIC PVD

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Imagem Grande :  O PROCESSO FÍSICO DO DEPÓSITO DE VAPOR (PVD) É USADO NA FABRICAÇÃO DA MICROPLAQUETA DO DIODO EMISSOR DE LUZ, BANDEJA DE SIC PVD

Detalhes do produto:
Lugar de origem: CHINA
Marca: ZG
Certificação: CE
Número do modelo: MS
Condições de Pagamento e Envio:
Quantidade de ordem mínima: 1 parte
Preço: USD10/piece
Detalhes da embalagem: Caixa de madeira forte para o transporte global
Tempo de entrega: 3 dias de trabalho
Termos de pagamento: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Habilidade da fonte: 10000 partes pelo mês
Contato

O PROCESSO FÍSICO DO DEPÓSITO DE VAPOR (PVD) É USADO NA FABRICAÇÃO DA MICROPLAQUETA DO DIODO EMISSOR DE LUZ, BANDEJA DE SIC PVD

descrição
aplicação: indústria química fina, indústria farmacêutica, engenharia da proteção ambiental dimensão: o diâmetro máximo do bloco do pacote de tubo pode alcançar 200mm, e a altura pode ser 500mm.
Material: carboneto de silicone Cor: Preto
Nome do produto: bloco do pacote de tubo do carboneto de silicone
Destacar:

bandeja do carboneto de silicone PVD de 330mm

,

bandeja do carboneto de silicone PVD de 300mm

,

bandeja de 330mm sic PVD

 

Sic bandeja de PVD

 

 

A bandeja do carboneto de silicone PVD é formada pelo processo da pressão isostatic e a aglomeração na alta temperatura. O diâmetro, a espessura, o número e o tamanho exteriores dos acupoints, da posição e da forma do sulco da tabuleta podem igualmente ser terminados de acordo com as exigências dos desenhos de projeto do usuário cumprir as exigências específicas do usuário.

 
Aplicações típicas
  • O processo físico do depósito de vapor (PVD) é usado na fabricação da microplaqueta do diodo emissor de luz.
 
Características e vantagens
  • Alto densidade
  • Boa condutibilidade térmica, baixo coeficiente de expansão e uniformidade da temperatura
  • Resistência de impacto do plasma
  • Resistente a todos os tipos da corrosão química forte do reagente do ácido e do alcaloide
  • Após a limpeza da categoria do semicondutor
 
Especificações 230/300/330mm
O PROCESSO FÍSICO DO DEPÓSITO DE VAPOR (PVD) É USADO NA FABRICAÇÃO DA MICROPLAQUETA DO DIODO EMISSOR DE LUZ, BANDEJA DE SIC PVD 0

etiqueta:

Cadinho cerâmico da alumina SiO2,

Cadinho cerâmico de derretimento de vidro da alumina,

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Contacto
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Pessoa de Contato: Daniel

Telefone: 18003718225

Fax: 86-0371-6572-0196

Envie sua pergunta diretamente para nós (0 / 3000)

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