Alvo de pulverização cerâmica Alvo de óxido de ídio

Alvo de Sputtering Cerâmico de Óxido de Índio

Descrição do Produto:
Nossos diversos alvos cerâmicos, produzidos por sinterização a quente a vácuo, apresentam tecnologia de ponta e processos de produção maduros. Esses produtos são usados principalmente em energia solar de filme fino, telas planas, revestimentos ópticos, semicondutores e aplicações militares.

Nossa empresa colabora com inúmeras universidades e faculdades renomadas, dedicadas à pesquisa e desenvolvimento de novos materiais e processos, e continua a fornecer produtos e serviços de alvo de alta qualidade para clientes nacionais e internacionais.

Introdução ao Alvo de Óxido de Índio:
Alvos planos de Ln203 são produzidos usando um processo de sinterização a quente a vácuo. Podemos produzir diâmetros de até 300 mm, com espessura personalizável para atender às necessidades do cliente.

Parâmetros Técnicos:Densidade 5,5g/cm³, Pureza: 99,99-99,999%

Controle de Qualidade: